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GSL-1800X-ZF2 蒸发镀膜仪主要应用于大专院校、科研机构、企业实验室及微小产品进行真空镀膜等真空处理的工艺研究、样板试制、操作培训和生产
GSL-1800X-ZF4 蒸发镀膜仪是一款高真空的蒸发镀膜仪,特别适合蒸镀对氧较敏感的金属膜(如Ti、Al、Au等),也可蒸镀各种氧化物材料。本机设有4个蒸镀加热舟,且每个蒸镀舟都带有挡板。若更改部分配置也可实现对有机材料的蒸发镀膜,可满足发光器件及有机太阳能电池方面的研究要求,是一款镀膜效果理想且性价较高的实验设备。
OTF-1200X-RTP-II 近距离蒸发镀膜(CSS)炉专门针对于用PVD或CSS法来制作薄膜。管式炉炉管直径为11“ OD,炉管内载样盘可放置3“ 的圆形或2“x2“的方形基片。加热元件为两组红外灯管,分别安装在腔体的顶端和底部,其升温速率高达20ºC/S 。温控系统为PID30段程序化控制,控温精度为+/-1ºC。仪器面板上带有RS485接口,仪表内配有控温软件,可将升温程序和曲线导出。
OTF-1200X-RTP-II-5-R 5英寸旋转蒸发镀膜炉,其炉腔体是一直径为11英寸的石英管。此款设备专门设计针对于热蒸发或CSS(Close Spaced Sublimation)镀膜实验,其镀膜面积可达到5“x5“,并且顶部载样台可旋转,提高镀膜均匀性。此款高温炉的加热元件是两组红外灯管(分别位于顶部和底部),大升温速率为10ºC/s 。对于探索新一代的薄膜太阳能电池,
GSL-1700X-EV4 程序控温型四坩埚蒸发镀膜仪是一款小型温控型蒸发镀膜仪,内部设有4个蒸发坩埚,且每个蒸发坩埚都带有挡板,多可放置4种不同的蒸发物料,可在同一气氛下依次镀膜,实现多层膜的沉积工艺。可程序控温,控温范围200-1500℃(选用B型热电偶:1200℃-1700℃),大可蒸镀直径2英寸薄膜样品,样品台可旋转以获得更均匀的薄膜,可制备各种金属薄膜和有机物薄膜。