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  • VTC-600-2HD 双靶磁控溅射仪
    VTC-600-2HD 双靶磁控溅射仪

    VTC-600-2HD双靶磁控溅射仪是研制开发的镀膜设备,可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。与同类设备相比,其不仅应用广泛,且具有体积小便于操作的优点,是一款实验室制备材料薄膜的理想设备。

    更新时间:2019-10-28型号:浏览量:97
  • GSL-1100X-SPC-16-3 等离子三靶溅射仪
    GSL-1100X-SPC-16-3 等离子三靶溅射仪

    GSL-1100X-SPC-16-3等离子三靶溅射仪是依据二极(DC)直流溅射原理设计而成的较简单、可靠、经济的镀膜设备。本机特别之处是在一个真空室内安装了三个靶,旋转样品台可依次在同一样品上涂覆三种材料。因此,适用于实验室各种复合膜样品的制备,以及非导体材料实验电极的制作。

    更新时间:2019-10-28型号:浏览量:120
  • GSL-1100X-SPC-16M 磁控溅射镀膜仪
    GSL-1100X-SPC-16M 磁控溅射镀膜仪

    GSL-1100X-SPC-16M磁控溅射镀膜仪是依据二极(DC)直流溅射原理设计而成的较简单、可靠、经济的镀膜设备,适用于实验室各种复合膜样品的制备,以及非导体材料实验电极的制作。

    更新时间:2019-10-25型号:浏览量:161
  • VTC-1RF-1 英寸小型磁控射频溅射镀膜仪
    VTC-1RF-1 英寸小型磁控射频溅射镀膜仪

    VTC-1RF是一款小型台式单靶等离子溅射仪(射频磁控型),配有1英寸的磁控等离子溅射头和射频(RF)等离子电源,此款设备主要用于制作非导电薄膜,特别是一些氧化物薄膜。对于新型非导电薄膜的探索,它是一款廉价并且高效的实验帮手。

    更新时间:2019-10-24型号:浏览量:94
  • VTC-2RF 300W射频等离子磁控溅射镀膜仪
    VTC-2RF 300W射频等离子磁控溅射镀膜仪

    VTC-2RF是一款小型的射频(RF)等离子体磁控溅射镀膜仪系统,系统中包含了所有所需的配件,如300W(13.5MHz)的RF电源、2“的磁控溅射头、石英真空腔体、真空泵和温度控制器等。对于制作一些金属薄膜及非金属薄膜,它是一款物美价廉的实验帮手。

    更新时间:2019-10-24型号:浏览量:84
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