欢迎光临深圳市科晶智达科技有限公司网站!
全国服务咨询热线:

18038052872

产品展示 / products 您的位置:网站首页 > 产品展示 > 薄膜制备设备 > 等离子镀膜设备
  • VTC-600-2HD双靶磁控溅射仪
    VTC-600-2HD双靶磁控溅射仪

    VTC-600-2HD双靶磁控溅射仪是一款带有两个靶头的磁控溅射镀膜仪,其中一个靶头采用直流(DC)溅射,可溅射金属靶材制备金属膜,另一个采用射频(RF)溅射,可溅射金属和氧化物靶材,制备金属或氧化物膜.设备上安装有薄膜测厚仪可以实时监测薄膜的厚度。此设备可制作各种单层或多层薄膜,如铁电、导电,合金,半导体,陶瓷,介电,光学,氧化物和PTFE薄膜等。而且设备体积较小操作方便,是一套理想的实验工具。

    更新时间:2022-10-28型号:VTC-600-2HD浏览量:568
  • GSL-1100X-SPC-16-3等离子三靶溅射仪
    GSL-1100X-SPC-16-3等离子三靶溅射仪

    GSL-1100X-SPC-16-3等离子三靶溅射仪是依据二极(DC)直流溅射原理设计而成的最-简单、可靠、经济的镀膜设备。本机特别之处是在一个真空室内安装了三个靶,旋转样品台可依次在同一样品上涂覆三种材料。因此,适用于实验室各种复合膜样品的制备,以及非导体材料实验电极的制作。

    更新时间:2022-10-28型号:GSL-1100X-SPC-16-3浏览量:415
  • GSL-1100X-SPC-16M磁控溅射镀膜仪
    GSL-1100X-SPC-16M磁控溅射镀膜仪

    GSL-1100X-SPC-16M磁控溅射镀膜仪是依据二极(DC)直流溅射原理设计而成的最-简单、可靠、经济的镀膜设备,适用于实验室各种复合膜样品的制备,以及非导体材料实验电极的制作。

    更新时间:2022-10-28型号:GSL-1100X-SPC-16M浏览量:574
  • VTC-1RF1 英寸小型磁控射频溅射镀膜仪
    VTC-1RF1 英寸小型磁控射频溅射镀膜仪

    VTC-1RF是一款小型台式单靶等离子溅射仪(射频磁控型),配有1英寸的磁控等离子溅射头和射频(RF)等离子电源,此款设备主要用于制作非导电薄膜,特别是一些氧化物薄膜。对于新型非导电薄膜的探索,它是一款廉价并且高效的实验帮手。 VTC-1RF 1 英寸小型磁控射频溅射镀膜仪

    更新时间:2022-10-28型号:VTC-1RF浏览量:409
  • VTC-2RF2英寸300W射频磁控溅射镀膜仪
    VTC-2RF2英寸300W射频磁控溅射镀膜仪

    VTC-2RF是一款小型的射频(RF)等离子体磁控溅射镀膜仪系统,系统中包含了所有所需的配件,如300W(13.5MHz)的RF电源、2“的磁控溅射头、石英真空腔体、真空泵和温度控制器等。对于制作一些金属薄膜及非金属薄膜,它是一款物美价廉的实验帮手。 VTC-2RF 2英寸300W射频磁控溅射镀膜仪

    更新时间:2022-10-28型号:VTC-2RF浏览量:568
共 6 条记录,当前 1 / 2 页  首页  上一页  下一页  末页  跳转到第页 
技术支持:化工仪器网   sitemap.xml   管理登陆
© 2022 版权所有:深圳市科晶智达科技有限公司( www.szkjzd.com)   备案号:

联系我们

contact us

咨询电话

18025386983180253869690755-26959531

扫一扫,关注我们

返回顶部