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磁控溅射镀膜仪

磁控溅射镀膜仪

简要描述:GSL-1100X-SPC-16M磁控溅射镀膜仪是依据二极(DC)直流溅射原理设计而成的最-简单、可靠、经济的镀膜设备,适用于实验室各种复合膜样品的制备,以及非导体材料实验电极的制作。

产品型号: GSL-1100X-SPC-16M

所属分类:等离子镀膜设备

更新时间:2023-11-06

厂商性质:生产厂家

详情介绍

GSL-1100X-SPC-16M磁控溅射镀膜仪是依据二极(DC)直流溅射原理设计而成的最-简单、可靠、

经济的镀膜设备,适用于实验室各种复合膜样品的制备,以及非导体材料实验电极的制作。

功能特点
  • 设有真空表、溅射电流表,可实时监控工作状态。

  • 通过调节溅射电流控制器、微型真空气阀,控制真空室压强、电离电流及选择所需要的电离气体,

  • 以获得最佳镀膜效果。

  • 钟罩边缘橡胶密封圈采用特殊设计,可保证长期使用不出现玻璃钟罩崩边现象。

  • 陶瓷密封高压电极接头比通常采用的橡胶密封更经久耐用。

  • 根据电场中气体电离特性,采用大容量溅射真空室和相应面积溅射靶,使溅射镀层更均匀纯净。

  • 溅射头采用Peltier制冷技术,可得到高性能、精细颗粒的涂层。

  • 可用水冷溅射头、水冷载物台。

技术参数
安装条件本设备要求在海拔1000m以下,温度25℃±15℃,湿度55%Rh±10%Rh下使用。
设备需选配自循环冷却水机(加注纯净水或者去离子水)
AC220V 50Hz,必须有良好接地
设备腔室内需充注氩气(纯度99.99%以上),需自备氩气气瓶(带减压阀)
工作台尺寸600mm×600mm×700mm,承重50kg以上
通风装置不需要
Ø50mm
真空室Ø160mm×120mm
最高真空度≤4×10-2mbar
最大电流50mA(100mA)
可设定最长时间9999s
微型真空气阀连接Ø3mm软管
最高电压1600V DC
机械泵2L/s
尺寸360mm×300mm×380mm
可选配件金、铟、银、铂等各种靶材
标准配件1金靶材1个
2进气针阀1个
3保险丝2个


GSL-1100X-SPC-16M磁控溅射镀膜仪

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