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VTC-600-2HD 双靶磁控溅射仪

简要描述:

VTC-600-2HD双靶磁控溅射仪是研制开发的镀膜设备,可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。与同类设备相比,其不仅应用广泛,且具有体积小便于操作的优点,是一款实验室制备材料薄膜的理想设备。

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功能特点
  • 配置两个靶枪,一个为配套射频电源用于非导电靶材的溅射镀膜,一个为配套直流电源用于导电类材料的溅射镀膜。
  • 可制备多种薄膜,应用广泛。
  • 体积小,操作简便。
技术参数
安装条件本设备要求在海拔1000m以下,温度25℃±15℃,湿度55%Rh±10%Rh下使用。
设备配有自循环冷却水机(加注纯净水或者去离子水)
AC220V 50Hz,必须有良好接地
设备腔室内需充注氩气(纯度99.99%以上),需自备氩气气瓶(自带Ø6mm双卡套接头)及减压阀
工作台尺寸1500mm×600mm×700mm,承重200kg以上
通风装置需要
电源电压220V 50Hz
最大功率<560W(不含真空泵)
极限真空度< E-6mbar(配合本公司设备使用可达到E-5mbar)
工作温度RT-500℃,精度±1℃(可根据实际需要提升温度)
靶枪数量2个(可选配其他数量)
靶枪冷却方式水冷
靶材尺寸Ø2″,厚度0.1-5mm(因靶材材质不同厚度有所不同)
直流溅射功率500W(可选)
射频溅射功率300W/500W(可选)
载样台Ø140mm
载样台转速1rpm-20rpm内可调
保护气体Ar、N2等惰性气体
进气气路质量流量计控制2路进气,每个流量为100SCCM
主机尺寸500mm×560mm×660mm
整机尺寸1300mm×660mm×1200mm
重量160kg
可选配件金、铟、银、白金等各种靶材
标准配件1直流电源控制系统1套
2射频电源控制系统1套
3膜厚监测仪系统1套
4分子泵(德国进口)1台
5冷水机1台
6冷却水管(Ø6mm)4根
7靶材(不锈钢靶、陶瓷靶)各1件

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