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双靶磁控溅射仪

双靶磁控溅射仪

简要描述:VTC-600-2HD双靶磁控溅射仪是一款带有两个靶头的磁控溅射镀膜仪,其中一个靶头采用直流(DC)溅射,可溅射金属靶材制备金属膜,另一个采用射频(RF)溅射,可溅射金属和氧化物靶材,制备金属或氧化物膜.设备上安装有薄膜测厚仪可以实时监测薄膜的厚度。此设备可制作各种单层或多层薄膜,如铁电、导电,合金,半导体,陶瓷,介电,光学,氧化物和PTFE薄膜等。而且设备体积较小操作方便,是一套理想的实验工具。

产品型号: VTC-600-2HD

所属分类:等离子镀膜设备

更新时间:2022-10-28

厂商性质:生产厂家

详情介绍

VTC-600-2HD双靶磁控溅射仪是一款带有两个靶头的磁控溅射镀膜仪,其中一个靶头采用直流(DC)

溅射,可溅射金属靶材制备金属膜,另一个采用射频(RF)溅射,可溅射金属和氧化物靶材,

制备金属或氧化物膜.设备上安装有薄膜测厚仪可以实时监测薄膜的厚度。此设备可制作各种单层或

多层薄膜,如铁电、导电,合金,半导体,陶瓷,介电,光学,氧化物和PTFE薄膜等。而且设备

体积较小操作方便,是一套理想的实验工具。

性能指标和基本配置
主要参数

● 输入电源:220V AC 50/60Hz
● 功率:<2KW(包含真空泵)
● 溅射电源:安装有两个溅射电源:
● 直流(DC)电源:500W,针对于制作金属膜
● 射频(RF)电源:300W,可制作氧化物和金属膜
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主要特点

● 体积小,操作简便
● 真空腔室、真空泵组整机模块化设计,控制电源为分体式设计,可根据用户实际需要调整购买需求。
● 可根据用户实际需要选择电源,可以一个电源控制多个靶枪,也可多个电源单一控制靶枪,购买前请联系我公司销售。

磁控溅射头

● 仪器中安装有2个2英寸磁控溅射头,而且都带有水冷夹层(图一)
● 一个溅射头与射频电源相连接,主要是溅射绝缘性靶材
● 另一个溅射头与直流电源相连接,主要溅射导电性靶材
● 靶材尺寸要求:直径为50mm,厚度0.1-5mm(因靶材材质不同厚度有所不同)
● 可以单独订购RF连接线作为备用(图二)
● 设备包含一台水冷机,用于靶头冷却(图三)
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载样台

● 载样台尺寸:φ140mm(最大可放置4"的基底)
● 载样台可以旋转,其速度为:1 - 20 rpm (可调)
● 载样台最高可加热温度为500℃
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真空腔体

● 真空腔体:φ300 mm  x 300 mm H,采用不锈钢制作
● 观察窗口:φ100 mm
● 腔体打开方式采用上顶开,使得换靶更加容易

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气体流量控制器

● 仪器内部安装有2个质量流量计,量程为:0-100sccm
● 气体流量设置可以在6英寸的触摸屏上进行操作
● 此系统运行需要Ar气,并且气瓶上安装有减压阀(设备中不包含)
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真空系统

● 配有一套GZK-103D分子泵系统(德国制作)
● 标准5E-5mbar 极限7.4E-6mbar(仅供参考,详情请点击)
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薄膜测厚仪(可选)

● 一个精密的石英振动薄膜测厚仪安装在仪器上,可实时监测薄膜的厚度,分辨率为0.10 Å
● LED显示屏显示,同时也输入所制作薄膜的相关数据
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产品尺寸

L 1300mm× W 660mm× H 1200mm

净重160 kg
使用提示

● 此设备为DIY设备,参数变化较大购买前请务必电话仔细沟通
● 为了得到较好的薄膜质量,必须通入高纯气体(建议> 5N)
● 在溅射镀膜前,确保溅射头、靶材、基片和样品台的洁净
● 要达到薄膜与基底良好结合,请在溅射前清洁基材表面
● 超声波清洗(详细参数点击下面图片):(1)丙酮超声(2)异丙醇超声-去除油脂(3)吹氮气干燥(4)真空烘箱除去水分。
● 等离子清洗(详细参数点击下面图片):可表面粗糙化,可激活表面化学键,可祛除额外的污染物。
● 制造一个薄的缓冲层(5纳米左右):如Gr,Ti,Mo,Ta,可以应用于改善金属和合金的附着力
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警告

● 注意:产品内部安装有高压元件,禁止私自拆装,带电移动机体。
● 气瓶上应安装减压阀(设备标配不包括),保证气体的输出压力限制在0.02兆帕以下,以安全使用。
● 溅射头连接到高电压。为了安全,操作者必须在关闭设备前装样和更换靶

认证

CE认证

保修期一年保修,终身技术支持。
特别提示:
1.耗材部分如加热元件,石英管,样品坩埚等不包含在内。
2.因使用腐蚀性气体和酸性气体造成的损害不在保修范围内
点击查看售后服务承诺书。




VTC-600-2HD双靶磁控溅射仪

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