产品中心
相关文章
PCE-6V 小型等离子清洗机集成了RF等离子体发生技术、计算机控制技术、软件编程技术,采用气体作为清洗介质,有效地避免了因液体清洗介质对被清洗物带来的二次污染。工作时外接一台真空泵,清洗腔内的等离子体轻柔冲刷被清洗物的表面,可短时间内*清洗掉有机污染物,清洗程度可达到分子级。另外,其样品台可选配加热功能,可加负偏压,用以实现离子蚀刻。此外,其可在特定条件下根据需要改变某些材料表面的性能。
PDC-36G 等离子清洗机是一种紧凑型、低成本的等离子清洗机。使用空气、氧气、氩气等离子去除纳米级有机物污染。在射频电源的作用下,去除速率大每分钟10纳米。在单晶材料外延薄膜生长以前进行预处理,对生长具有显著的作用 。
PCE-80 8.5英寸等离子清洗机是一款较大型的等离子清洗机,等离子腔体为 8.5 “dia x 12““L的石英腔体,采用的射频电源功率0 - 100W连续可调节。此款设备主要是通过空气、氧气或氩气等气体的等离子体来去除基片上的氧化层和污染物,同时也可改变物体表面的性质(如亲水和疏水性等)。对于基片的清洗以及薄膜处理此款设备是较为理想的实验帮手。
PCE-500W 500W等离子刻蚀清洗机是一款较大型的500W等离子刻蚀清洗机,等离子腔体为 8.5 “dia x 14.4“L的石英腔体,采用的射频电源频率为13.56MH,功率0 -500W连续可调节。此款设备功率高,可用于等离子刻蚀、等离子灰化、表面改性以及材料掺杂改性等应用,对于基片的清洗以及薄膜处理此款设备是较为理想的实验帮手。
GSL-1100X-PJF 等离子表面处理仪是一款紧凑的大气离子表面处理喷射系统,主要由射频发生器、离子束头组成。喷射的离子束流能在较低的温度和没有真空条件下,迅速活化和清理材料表面。例如单晶片、光学元件、塑料等广泛的材料。 为了获得高质量的外延薄膜或者光学涂层,预*行表面处理可以得到显著的效果。
GSL-1100X-PJF-A是等离子枪和可控制的样品台结合在一起的产品,有自动控制的样品台,就可使等离子枪按设定程序对样品表面进行更均匀涂覆和处理,保证处理样品表面的*性和均匀性。此系统是由RF发生器、气体传输管、等离子枪头和X-Y移动的工作台(带有真空吸盘和控制盒)。此系统产生等离子束可在非真空和低温状态下活化和清洗样品表面,可处理的样品有单晶片,光学元件和塑料等,也可在常压下进行等离子增强