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PCE-44 小型紫外臭氧清洗机

PCE-44 小型紫外臭氧清洗机

简要描述:PCE-44 小型紫外臭氧清洗机,可用于清洗各种单晶基片,以保证更好的成膜质量。同时也可去除光刻胶、改善材料表面润湿性、清洗SEM和TEM样品及紫外活化聚合物等。紫外臭氧清洗提供了一种无酸、干燥对材料无损伤的原子级别的清洗手段,特别适合清除一些有机化合物。紫外灯主要发出两种波长的光:185nm和254nm.其中185nm的光可把空气中的氧气变为臭氧,254nm可以破坏化合物中的键

产品型号:

所属分类:臭氧清洗机

更新时间:2023-11-06

厂商性质:生产厂家

详情介绍

PCE-44 小型紫外臭氧清洗机可用于清洗各种单晶基片,以保证更好的成膜质量。同时也可去除光刻胶、改善材料表面润湿性、清洗SEM和TEM样品及紫外活化聚合物等。紫外臭氧清洗提供了一种无酸、干燥对材料无损伤的原子级别的清洗手段,特别适合清除一些有机化合物。紫外灯主要发出两种波长的光:185nm和254nm.其中185nm的光可把空气中的氧气变为臭氧,254nm可以破坏化合物中的键(特别是碳碳键)。所以这两种波长的光组合可有效地清除有机化合物。

 性能指标和基本配置
电源

220V 50/60HZ

紫外灯

● UV灯管
● 功率:55W
● 发出光的波长:波长254nm+185nm
● 使用寿命:6000h小时
● 照射区域:100 x 100 mm
● 光照强度:4.6 mw/cm2
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腔体

● 抽拉盒尺寸: 140mm*132mm*20mm
● 标配高纯石英片用于盛放样品,避免污染
1

应用

● 去除分子级别的污染物
● 紫外光固化粘合剂
● 紫外光催化
● 氧化PDMS
● 表面消毒
● 刻蚀
● 清洗MEMS 器件
● 清洗各种基片,如Si, Ge, GaAs和各种氧化物单晶基片

环境要求

● 仅室内使用; 海拔高度在5,562英尺以内
● 温度范围41-104华氏度
● 最大相对湿度80%,最高87华氏度,104华氏度线性降至50%相对湿度
● 主电源波动不超过标称电压的10%
● 污染等级2; 臭氧水平(环境)测量<45 ppb

外形尺寸

240mm*200mm*165mm
1

净重4kg
认证

所有电器元件(>24V)都通过UL/MET/CSA/CE认证,若客户出认证费用,本公司保证单台设备通过德国TUV认证或CAS认证。

1

保修期一年保修,终身技术支持。
特别提示:
1.耗材部分如加热元件,石英管,样品坩埚等不包含在内。
2.因使用腐蚀性气体和酸性气体造成的损害不在保修范围内。
点击查看售后服务承诺书。

PCE-44 小型紫外臭氧清洗机

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