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PCE-44-LD 小型紫外臭氧清洗机

简要描述:

PCE-44-LD是一款小型紫外臭氧清洗机,可用于清洗各种单晶基片,以保证更好的成膜质量。同时也可去除光刻胶、改善材料表面润湿性、清洗SEM和TEM样品及紫外活化聚合物等。紫外臭氧清洗提供了一种无酸、干燥对材料无损伤的原子级别的清洗手段,特别适合清除一些有机化合物。紫外灯主要发出两种波长的光:185nm和254nm.其中185nm的光可把空气中的氧气变为臭氧,254nm可以破坏化合物中的键

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PCE-44-LD是一款小型紫外臭氧清洗机,可用于清洗各种单晶基片,以保证更好的成膜质量。同时也可去除光刻胶、改善材料表面润湿性、清洗SEM和TEM样品及紫外活化聚合物等。紫外臭氧清洗提供了一种无酸、干燥对材料无损伤的原子级别的清洗手段,特别适合清除一些有机化合物。紫外灯主要发出两种波长的光:185nm和254nm.其中185nm的光可把空气中的氧气变为臭氧,254nm可以破坏化合物中的键(特别是碳碳键)。所以这两种波长的光组合可有效地清除有机化合物。

技术参数
电源

 

● AC 208~240V,单相 50/60Hz

 

紫外灯

 

● 可发出双波长的水银灯

● 功率:55W

● 发出光的波长:254nm 和185nm

● 使用寿命:2500 小时(可更换)

● 照射区域:100 x 100 mm

● 光照强度:4.6 mw/cm2

1

 

腔体 & 样品台

 

● 抽拉盒尺寸: 133 x 133x 25mm

● 支架尺寸: 100mmx 100mm x 19

● 抽屉底座与紫外灯的距离:27mm

● 样品台与紫外灯的距离:8mm

1

 

应用

 

● 去除分子级别的污染物

● 紫外光固化粘合剂

● 紫外光催化

● 氧化PDMS

● 表面消毒

● 刻蚀

● 清洗MEMS 器件

● 清洗各种基片,如Si, Ge, GaAs和各种氧化物单晶基片

 

环境要求

 

● 仅室内使用; 海拔高度在5,562英尺以内

● 温度范围41-104华氏度

● 最大相对湿度80%,最大87华氏度,104华氏度线性降至50%相对湿度

● 主电源波动不超过标称电压的10%

● 污染等级2; 臭氧水平(环境)测量<45 ppb

 

外形尺寸

 

● 240mm*200mm*152mm

 

净重

 

4Kg

 

认证

 

CE认证

 

质保期

 

● 一年保修,终身技术支持。

特别提示:1.耗材部分如加热元件,石英管,样品坩埚等不包含在内。

          2.因使用腐蚀性气体和酸性气体造成的损害不在保修范围内。

● 点击查看售后服务承诺书。

 

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