OTF-1200X-RTP-II 近距离蒸发镀膜（CSS）炉专门针对于用PVD或CSS法来制作薄膜。管式炉炉管直径为11“ OD，炉管内载样盘可放置3“ 的圆形或2“x2“的方形基片。加热元件为两组红外灯管，分别安装在腔体的顶端和底部，其升温速率高达20ºC/S 。温控系统为PID30段程序化控制，控温精度为+/-1ºC。仪器面板上带有RS485接口，仪表内配有控温软件，可将升温程序和曲线导出。

钙钛矿镀膜机主要由有机/金属源蒸发沉积室、真空排气系统、真空测量系统、蒸发源、样品加热控温、电控系统、配气系统等部分组成。适用于制备金属单质薄膜、半导体薄膜、氧化物薄膜、有机薄膜等，可用于科研单位进行新材料、新工艺薄膜研究工作，也可用于大批量生产前的试验工作，广泛应用于有机、无机、钙钛矿薄膜太阳能电池、OLED等研究领域。

OTF-1200X-RTP-II-5-R 5英寸旋转蒸发镀膜炉，其炉腔体是一直径为11英寸的石英管。此款设备专门设计针对于热蒸发或CSS（Close Spaced Sublimation）镀膜实验，其镀膜面积可达到5“x5“，并且顶部载样台可旋转，提高镀膜均匀性。此款高温炉的加热元件是两组红外灯管（分别位于顶部和底部），大升温速率为10ºC/s 。对于探索新一代的薄膜太阳能电池，

GSL-1700X-EV4 程序控温型四坩埚蒸发镀膜仪是一款小型温控型蒸发镀膜仪，内部设有4个蒸发坩埚，且每个蒸发坩埚都带有挡板，多可放置4种不同的蒸发物料，可在同一气氛下依次镀膜，实现多层膜的沉积工艺。可程序控温，控温范围200-1500℃（选用B型热电偶：1200℃-1700℃），大可蒸镀直径2英寸薄膜样品，样品台可旋转以获得更均匀的薄膜，可制备各种金属薄膜和有机物薄膜。

VTC-600-2HD双靶磁控溅射仪是一款带有两个靶头的磁控溅射镀膜仪，其中一个靶头采用直流（DC）溅射，可溅射金属靶材制备金属膜，另一个采用射频（RF）溅射，可溅射金属和氧化物靶材，制备金属或氧化物膜.设备上安装有薄膜测厚仪可以实时监测薄膜的厚度。此设备可制作各种单层或多层薄膜，如铁电、导电，合金，半导体，陶瓷，介电，光学，氧化物和PTFE薄膜等。而且设备体积较小操作方便，是一套理想的实验工具。