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VTC-200PV真空旋转涂膜机

简要描述:

VTC-200PV真空旋转涂膜机适用于半导体、晶体、光盘、制版等表面涂覆工艺。本机可用于强酸、强碱性涂覆溶液的涂膜制备。

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VTC-200PV真空旋转涂膜机适用于半导体、晶体、光盘、制版等表面涂覆工艺。本机可用于强酸、强碱性涂覆溶液的涂膜制备。

安装条件
  • 本设备要求在海拔1000m以下,温度25℃±15℃,湿度55%Rh±10%Rh下使用。
  • 1、水:设备配有进出水口
  • 2、电:AC220V 50Hz,必须有良好接地
  • 3、气:不需要
  • 4、工作台:尺寸600mm×600mm×700mm,承重50kg以上
  • 5、通风装置:需要
技术参数
特点

1、设有12组程序,每组包含6个运行阶段。

2、真空吸附方式固定样件,操作简便。

3、真空度最大可以达到-0.08MPa。

4、使用定位工具可将样件很容易地放在中心位置,以减少偏心而造成的震动或飞片。

5、根据样件规格可以配用不同的吸盘,且更换方便简单。

6、电机启动快速稳定,可以保证涂层厚度的*性和均匀性。

7、本机可置于手套箱内使用,但控制部分与真空泵需置于箱外。

8、可在惰性气体气氛下图层

9、可在真空状态下图层,在此状态下图层,需要粘接基片或夹持基片方可实现

功率350W
转速500rpm-6000rpm
时间1s-60s
腔体真空度1Torr(VRD-16机械泵连续工作)
产品规格尺寸:250mm×290mm;重量:25kg
标准配件真空吸盘1个
夹持吸盘1个
无油真空泵1台
可选配件VRD-16机械泵

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