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  • MSK-PSS-MC1010磁控溅射仪
    MSK-PSS-MC1010磁控溅射仪

    应用范围:MSK-PSS-MC1010磁控溅射仪可在衬底基片上溅射一层薄膜,原理是由惰性工艺气体产生辉光放电现象生成带电离子,带电离子经过电场加速后轰击固体靶材表面,使靶材表面原子和分子被轰击飞溅出来,同时产生二次电子,再次撞击气体原子而形成更多的带电离子,从靶材溅射出来的粒子在低压气氛中向硅片作渡越运动,碰撞到衬底基片上并被基片吸附,最终凝聚在衬底形成需要的薄膜。

    更新时间:2024-11-06型号:浏览量:276
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