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UNIPOL-1203化学机械磨抛机

简要描述:

UNIPOL-1203化学机械磨抛机,适用于CMP平坦化和平滑化工艺技术, 整机研磨部分采用防腐材料,耐化学腐蚀,配置自动滴料器和精密磨抛控制仪,全自动触摸屏面板,从加工性能和速度上同时满足晶圆等面型加工的需求。

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UNIPOL-1203化学机械磨抛机,适用于CMP平坦化和平滑化工艺技术, 整机研磨部分采用防腐材料,耐化学腐蚀,配置自动滴料器和精密磨抛控制仪,全自动触摸屏面板,从加工性能和速度上同时满足晶圆等面型加工的需求。 

 

产品名称

UNIPOL-1203化学机械磨抛机

安装条件

本设备要求在海拔1000m以下,温度25℃±15℃,湿度55%Rh±10%Rh下使用。

1、水:设备配有上水口及下水口,需自行连接自来水及下排水

2、电:AC220V 50Hz,必须有良好接地

3、气:无

4、工作台:尺寸800mm×600mm×700mm,承重200kg以上

5、通风装置:不需要

主要特点

1、超平不锈钢抛光盘(平面度为每25mm×25mm小于0.0025mm)。

2、超精旋转轴(托盘端跳小于0.01mm)。

3、设有两个加工工位,可分别进行控制。

4、配有全自动控制触摸屏面板,可设置主轴转速、摆臂速度、磨抛时间。

5、配置自动滴料器,流量速率可视化调整,自动研磨和抛光。

6、配置GPC-100A精密磨抛控制仪,可调节压力,修整面型,使磨抛更加方便快捷。

7、研磨部分采用防腐材料,耐化学腐蚀。

技术参数

主机部分

GPC-100A精密磨抛控制仪

自动滴料器

1、电源:110V/220V

2、功率:400W

3、磨抛盘转速:10-240rpm

4、磨抛工位:2个

5、摆臂调节档位:1-15档

6、托盘端跳:0.008/250mm

7、磨抛盘:Ø300mm

8、修盘环:Ø127.5mm

 

1、载样盘直径:Ø103mm

2、载样盘轴向行程:12mm

3、数显表精度:0.001mm

4、载样盘可调加载压力:0.1kg-2.1kg

5、压力确认仪有效量程:1g-5000g

6、样品装卡方式:真空吸附

7、承载样件尺寸:

  直径≤103mm、 厚度≤12mm

8、尺寸:外径146mm,高266mm

 

SKZD-2滚筒滴料器

1、容积:1.5L

2、流量:0-35ml/min

3、尺寸:170×290×350mm;

  重量:3kg

SKZD-4自动滴料器

1、加液泵:4个

2、料液瓶:600ml/瓶

3、计时范围:1-999min

4、流量:0.1ml/min-10ml/min

5、尺寸:230×370×450mm;

  重量:10kg

产品规格

1、整套尺寸:950mm×690mm×580mm;

2、重量:90kg

标准配件

1

不锈钢抛光盘

1个

2

载物盘

1个

3

修盘环

1个

4

SKZD-2滴料器

1个

滴料器

5

SKZD-4自动滴料器

1个

滴料器

6

GPC-100A精密磨抛控制仪

1个

7

抛光垫

(磨砂革、合成革、聚氨酯)

各1片

8

刚玉研磨微粉

0.5kg

9

石蜡棒

4根

可选配件

1、YJXZ-12搅拌循环泵

2、精密测厚仪

3、陶瓷研磨盘

4、玻璃研磨盘

5、磁性树脂金刚石研磨片

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